技術文章
Technical articles針對光學和介電功能薄膜制備中的離化率低和靶面污染問題,設計了一種磁控濺射沉積系統(tǒng),系統(tǒng)包括磁控濺射靶裝置、等離子體源和陽極清洗裝置。主要結論有:(1)在磁控濺射靶裝置設計中,采用磁流體密封替代橡膠軸承密封,提高了靶裝置的密封性,極限真空度可達10-6Pa;采用旋轉磁鋼代替固定磁鋼,使靶材的利用率從30%提高到60%,同時避免了靶裝置在預先清洗時的污染;設計了靶裝置的驅動端,完成了電機、傳動裝置和軸承的選型。(2)設計等離子體源來改善沉積系統(tǒng)離化率不足的問題。選擇0.2mm鎢絲...
集成電路自動化裝備-探針臺是晶圓測試領域研究的熱點。由于晶圓片上晶粒很小,達到微米級,所以要求探針臺要保持很高的定位精度和運動精度才能保證探針與晶粒的準確對針和測試。因此,本文主要研究的問題是如何保證探針臺高精密控制,從而達到微米級定位要求。本文來自于國家02專項-面向12”晶圓片的全自動探針臺關鍵技術研究。首先,本文介紹了探針臺兩大部分-LOADER和PROBER的關鍵結構和運動流程；其次,本文重點對預對位、Z軸升降、XY平臺三個關鍵部件的精準控制進行研究,分析影響控制精度...
紅外熱成像技術由于自身各種優(yōu)勢在軍事領域和民用領域有著廣闊的應用前景,因此備受各國重視,競相發(fā)展相關技術。由于國外對紅外熱成像技術的研究比較早,而我國在紅外熱成像技術領域起步較晚,所以差距很大。近年來我國在紅外熱成像技術的相關領域取得了一些進展,但很多方面還是遠遠落后于世界水平。因此,還需要加快紅外熱成像技術的研究。本課題以加快紅外熱成像技術的研究進度、減小研究周期、提升研究效率,降低研究及生產成本為目標,以紅外熱成像系統(tǒng)的核心部分非制冷紅外焦平面為基礎,研究紅外焦平面封裝前...
Q1:什么是PVD?真空電鍍加工真空鍍膜技術A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。鄭州科探儀器設備有限公司新研發(fā)一款小型蒸鍍儀KT-Z1650DM是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃...
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